| 設備名稱 | 1700℃小型精確控溫蒸發(fā)鍍膜儀--GSL-1700X-SPC-2 （2019.11.25—科晶實驗室審核） |
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| 相關視頻 |
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| 產(chǎn)品提示 | ||||
| 主要特點 | ·直徑6英寸的石英腔體，便于清潔和放入樣品。 ·安裝有一個2英寸的樣品臺，并且樣品臺可以旋轉，使所制薄膜更加均勻。 ·樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離可以調節(jié) ·氣體流量端口和閥門內(nèi)置可用于腔室凈化和CVD實驗。 ·采用鎢絲加熱
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| 基本參數(shù) | ·控溫方式：手動控溫/程序控溫 ·控溫精度：+/-1℃ ·腔體真空度：5*10^-3Pa（表壓只能顯示到 1*10^-1Pa） ·樣品室：石英腔體：167mm OD. x 152mm ID x 260mm H ·基片：可裝載基片最大尺寸為 50mm ·輸出電壓：DC 18V ·最大輸出電流：≤30A 正常蒸發(fā)電流：≤25A ·輸入電源：AC 220V 50HZ/60HZ ·輸入功率：1.76KW（不含真空系統(tǒng)） ·最高使用溫度：≤1500℃ 更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
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| 溫控及加熱源 | ·采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，并且配有專用的氧化鋁坩堝，熱電偶安裝在坩堝底部，以便于溫度測量和控制。（圖1） ·采用S型熱電偶（工作溫度為200℃-1500℃）（圖2） ·可選B型熱電偶（工作溫度為1200℃-1700℃） ·安裝有一個數(shù)顯的溫度控制器：可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC（圖3） ·溫度控制器的時間設置以秒為單位，建議將升溫/降溫速率限制在1200oC以下0.3oC/s（20oC/ min），在1200 - 1500oC限制到0.15oC/s（10oC/min） ·儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝（圖4、圖5）
圖1 圖2 圖3 圖4 圖5 |
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| 進氣口 | ·進氣接口為1/4NPS，可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進行清洗，也可通入反應氣體，進行反應蒸發(fā)鍍膜 ·進氣口安裝有一針閥，用于調節(jié)進氣流量 |
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| 皮拉尼真空計 | · 安裝位置：室內(nèi)或空曠的露天樓宇及工作室； · 溫度：5-60℃； · 濕度：30℃環(huán)境下≤80% 40℃環(huán)境下≤50%無冷凝氣體； · 環(huán)境大氣壓：860-1060mbar。 |
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| 真空泵（選配) | · 型號：VRD-8 · 電源 AC 220V 50/60 Hz · 功率：400W · 進排氣連接口：KF25 · 抽氣速率：8 m3/h
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| 尺寸 | 540*400*710mm（長*寬*高）
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| 重量 | 40 kg |
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| 認證 | ·此產(chǎn)品已通過CE認證 證書編號：M.2021.206.C67994 ·若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證
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| 質保 | 一年質保期，終生維護 特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
使用GSL-1700X-SPC-2設備在Si片上蒸鍍Cu，探索設備蒸鍍膜厚最大及最小值。
實驗過程：
圖1設備 圖2蒸發(fā)料
原料：銅段（蒸發(fā)料，銅導線內(nèi)芯），Si基底（酒精超聲清洗30min，后使用去離子水超聲清洗30min，真空烘箱70℃烘干）。使用分子泵抽真空，待真空度到達100時，利用氮氣對腔室進行洗氣三至四次。洗氣結束，待分子泵抽真空至10-4Torr，開始給爐子加熱，升溫曲線0.6℃/s，升溫至相應溫度，玻璃罩出現(xiàn)金屬色后打開擋板蒸鍍。
實驗結果如下：
目的 | 組別 | 蒸鍍條件 （溫度、時間） | 鍍膜前 | 鍍膜后 | 膜厚 |
最薄 | 1 | 1250℃、10s |
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2 | 1200℃、10s |
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3 | 1200℃、3s |
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最厚 | 4 | 1200℃、60min |
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5 | 1200℃、30min |
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結論：
1、GSL-1700X-SPC-2設備在Si基底上鍍Cu，最薄（膜厚儀可檢測）可蒸鍍至14.8nm
2、GSL-1700X-SPC-2設備在Si基底上鍍Cu，最厚（起皮前）可蒸鍍至37.72μm
特別聲明：
1. 以上所有實驗僅為初步探究，僅供參考。由于我們水平有限，錯誤疏漏之處歡迎指出，我們非常期待您的建議。
2. 歡迎您提出其他實驗思路，我們來驗證。
3. 以上實驗案例及數(shù)據(jù)只針對科晶設備，不具有普遍性。
4. 因為涉及保密問題，以上數(shù)據(jù)僅為部分數(shù)據(jù)，歡迎老師與我們聯(lián)系，我們非常期待和您共同探討設備的應用技術。
應用提示 | ·使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕，并用酒精擦洗。 ·抽真空時，用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃，氧化鋁坩堝預加熱到500℃，保持2小時。 ·如誤將控溫儀表設為手動狀態(tài)，程序將不能正常運行。 ·如果用戶選配了STC-2型薄膜測厚儀，在選用取樣片時請按：鍍純金屬時用金取樣片，鍍合金時用銀取樣片。 ·鎢絲藍必須在真空狀態(tài)下（＜5Pa）才能通電加熱，否則會被氧化。 ·蒸鍍儀標配熱電偶型號為“S”型熱電偶,如需加熱到 1500℃以上，則需更換“B”型熱電偶。 ·當所需要蒸鍍的物料會與氧化鋁坩堝產(chǎn)生反應，則需將氧化鋁坩堝換成氧化鋁通孔坩堝。然后在通孔坩堝上再放上一個不銹鋼異形坩堝（注意：加熱不銹鋼坩堝時，溫度不能超過1100℃）。用戶可額外選購鎢絲籃及氧化鋁坩堝。（圖1、2） 圖1 圖2 |
警示 | ·蒸鍍儀在工作中嚴禁旋開試樣室充氣閥充氣、關閉真空泵。 ·蒸鍍電流不宜大于 20A。 ·蒸鍍儀一般工作溫度不得超過 1500℃（長時間工作溫度），最高溫度 1600℃ （工作時間不超過 30 分鐘）。 ·此設備儀表程序時間為秒，200℃之前升溫速度不宜大于 0.5 度/秒。 |
相關可選 | ·可選用真空系統(tǒng)配套使用：分子泵真空度可達 10E-4 torr。(圖1) ·如果使用腐蝕性氣體，請使用冷阱或防腐干泵。(圖2) ·可選購一數(shù)顯防腐真空計，測量范圍為：3.8x10^-5-1125Torr。(圖3) ·可在本公司選購精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在濺射儀上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?。（圖4、5）同時可選購反射光譜薄膜測厚儀--TFMS-LD（圖6） ·此款蒸鍍儀可以放入到手套箱里操作，用于蒸鍍一些在常溫下對氧氣敏感的材料，比如金屬Li等，可在本公司選購開啟式手套箱VGB-6。（圖7） 圖1 圖2 圖3 圖4
圖5 圖6 圖7 |
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