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如何為CVD設(shè)備選型

前記：化學(xué)氣相沉積（CVD）是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術(shù)，理論上即：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個反應(yīng)室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。所以普通CVD實(shí)驗(yàn)設(shè)備則由三套及以上的設(shè)備組合而成即：高溫爐（提供實(shí)驗(yàn)溫度）+供氣系統(tǒng)（提供多種氣體混合）+真空系統(tǒng)（提供實(shí)驗(yàn)環(huán)境）。化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備的靈活度很高，客戶可根據(jù)自己實(shí)驗(yàn)要求選擇合適的產(chǎn)品來組合，或者直接選擇套裝（請點(diǎn)擊這里）。

建議：如果您是在分開購買CVD設(shè)備時最好跟科晶人員溝通是否需要一些必須的配件，以防分體購買CVD中的設(shè)備造成配件不全不能立即實(shí)驗(yàn)的問題。

一．高溫爐選擇（CVD系統(tǒng)中一般是管式爐）：高溫爐為CVD實(shí)驗(yàn)提供材料沉積所需要的溫度

1、如何選擇管式爐：

二、供氣系統(tǒng)選擇：供氣系統(tǒng)即混氣裝置，它可以實(shí)現(xiàn)2種或者2種以上的氣體或者蒸汽按照一定的比例來混合，然后通入高溫爐中

本公司根據(jù)流量計的不同分為2類:

1.氣體流量計：

浮子流量計：氣體通過普通的浮子流量計粗略的估計進(jìn)氣量。如GSL-2F、GSL-3F
質(zhì)量流量計：氣體通過D07質(zhì)量流量計精確控制進(jìn)氣量。如GSL-2Z、GSL-3Z、GSL-4Z等

2、氣液混合流量計：

用于液體高溫氣化后導(dǎo)入CVD系統(tǒng)的設(shè)備，有建議版和精確控制版本兩種可選

三、真空系統(tǒng)選擇：真空系統(tǒng)為CVD實(shí)驗(yàn)提供實(shí)驗(yàn)的真空環(huán)境，將管式爐中的空氣抽走，達(dá)到真空的環(huán)境。客戶根據(jù)自己實(shí)驗(yàn)所需真空度大小及實(shí)驗(yàn)所需清潔程度來選擇合適的真空裝置。

本公司根據(jù)真空泵的不同分為2類：

1、低真空系統(tǒng)GZK-101。采用4L/S的雙級真空泵，標(biāo)配電阻規(guī)真空計

2、高真空系統(tǒng)GZK-103。采用進(jìn)口分子泵，自帶真空計。GZK-103G。采用國產(chǎn)分子泵，自帶真空計

另，若經(jīng)費(fèi)有限，客戶也可以只購買單獨(dú)的真空泵、真空計和真空泵連接配件來實(shí)現(xiàn)抽真空的步驟