| 設備名稱 | 1英寸雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀—VTC-1RF-II（2021.1.29--科晶實驗室審核） |
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| 主要特點 | ·小型臺式雙靶等離子濺射儀(射頻磁控型) ·此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化物薄膜 ·可以配置高壓直流電源，適合客戶制作一些金屬薄膜 |
| 輸入電源 | ·220VAC 50/60Hz, 單相 ·1200W (包括真空泵） |
| 等離子源 | ·標配有兩套13.5MHz,100W的射頻電源（采用手動匹配） ·注意：100W手動調節(jié)的RF（射頻）電源價格較低，但是每一次對于不同的靶材，都需要手動設置參數才能產生等離子體，比較耗費時間。 ·可選配有500W的直流電源（采用手動調節(jié)功率和電流）
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| 磁控濺射頭 | ·兩個1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接 ·靶材尺寸: 直徑為25.4mm,最大厚度3mm ·一個快速擋板安裝在法蘭上 ·濺射頭所需冷卻水：流速10L/min（儀器中配有一臺流速為16L/min的循環(huán)水冷機）
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| 真空腔體 | ·真空腔體：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高純石英制作 ·密封法蘭:直徑為φ274mm . 采用不銹鋼制作，采用硅膠密封圈密封 ·一個不銹鋼網罩住整個石英腔體，以屏蔽等離子體（如下圖） ·真空度：<1.0×10-2 Torr （采用雙極旋片真空泵）,<5×10-5 torr （采渦旋分子泵） ·如果需要更高真空度，可以定做不銹鋼真空腔室（真空度可以達到5*10-6torr以下）
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| 載樣臺 | ·載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻），并可加熱 ·載樣臺尺寸：直徑50mm （最大可放置2英寸的基片） ·旋轉速度：3- 10 rpm（可調速） ·樣品臺的最高加熱溫度為700℃ (短期使用，恒溫不超過1小時)，長期使用溫度500℃ ，控溫精度+/- 5 ℃
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| 真空泵 | ·型號：VRD-16 ·抽氣速率：4.4 L/S ·電機功率：750 W ·極限壓強：5×10-1Pa（不帶負載） |
| 薄膜測厚儀（可選） | ·一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ? ·LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據
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| 質保 | 一年質保期，終生維護 |
| 認證 | ·此產品已通過CE認證 證書編號：M.2021.206.C67994 ·若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證
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皖公網安備 34012302000974號
