實驗室小課堂-如何根據應用選擇本公司濺射鍍膜儀或蒸鍍儀
發布時間：2020-07-17
應用 | 設備 | 特點 | |
1 | 表面鍍貴金屬用于薄膜研究（<2”） |
| 同一腔室中3靶頭用于貴金屬的濺射鍍膜 |
2 | 表面鍍各種金屬用于薄膜研究（<2”） |
| ?磁控濺射鍍膜 ?最大濺射電流可達150mA，?可用于濺射各種輕金屬如Al, Sn, Zn 等 |
3 | 表面鍍絕大多數的金屬或無機非金屬材料薄膜（<2”） |
| ?高真空蒸發鍍膜儀 ?蒸鍍溫度從200-1500℃（或選配B型熱電偶，蒸鍍溫度可從1200-1700℃） |
4 | 表面鍍氧化物薄膜（<2”）
| 1英寸或2英寸300W射頻等離子磁控濺射儀VTC-2RF
| ?低成本 ?射頻電源 |
5 | 各種材料表面進行光學涂層（多晶）（<4”） |
| ?分子泵高真空 ?4個蒸鍍加熱舟 |
6 | 金屬及無機非金屬氧化物薄膜的外延生長（<4”）
| DC/RF雙靶頭高真空等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-600-2HD
| ?配備有直流以及射頻電源，分子泵 ?可用于各種材料薄膜的外延生長 ?同時配備測厚儀實時監控薄膜厚度 |
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皖公網安備 34012302000974號
